蒸發系統
液態源直接蒸發是指直接加熱液態源，使原料達到或接近沸點，形成一定壓力下并具有足夠利于自身擴散的飽和蒸氣壓，直接供應原料蒸汽。
適用場合： DIFF Process, CVD Process, TCO Process,
VAD OVD PCVD MOCVD Process 等。
適用氣體：SiCl4, GeCl4, TCS, TMB, TEOS, POCl3,
DeZn等。
可根據客戶工藝流量要求及介質性質定制合適的蒸發器，專為客戶工藝定制的GAS BOX，將蒸發器，MFC, 溫度壓力等傳感器件、閥門整合在一起，即為蒸發系統。
蒸發加熱的優勢：
1. 出氣即為液態源的飽和蒸氣，可以直接確認蒸汽濃度，工藝參數易于控制。
2. MFC為原料蒸汽的高溫MFC,直接控制出氣流量。
3. 加熱原料方式采用PID和壓力反饋聯用方式，使原料在蒸發器中處于穩定的溫度和壓力狀態。
4. 匹配的高溫環境杜絕原料液化。
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